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    超純氨氣

    超純氨是微電子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,其反應(yīng)為:750—850℃:SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2,850—900℃:3SiCl4+4NH3---Si3N4+12HCl。雖然NH3在半導(dǎo)體制造用量不大,但在光電子領(lǐng)域、超純氨是十分重要的原材料

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    超純氨是微電子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,其反應(yīng)為:750—850℃:SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2,850—900℃:3SiCl4+4NH3---Si3N4+12HCl。雖然NH3在半導(dǎo)體制造用量不大,但在光電子領(lǐng)域、超純氨是十分重要的原材料

     

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